橫店集團南匯高新科技工業園區辦公大樓及園區景觀設計方案附手繪圖.rar

建筑設計說明

一、 項目概述

橫店集團上海南匯高新科技工業園區位于南蘆公路以東，西樂路以西，宣黃公路以南、大冶河以北的占地235.2339hm2地塊內。根據控制性詳規，工業用地占167.7萬平方米，行政培訓用地占9.3萬平方米，居住用地占3.48萬平方米，道路綠化用地占54.7萬平方米，進入園區的企業主要有電子、信息、機械工業；醫藥、食品工業及合資企業等三大類。本工程項目為高新技術工業園區的辦公大樓及園區的綠化、景觀工程。

二、 設計依據

1． 經批準的《橫店集團上海南匯高新科技工業園區控制性詳細規劃》。

2． 規劃建筑管理部門劃定的建設地點、位置和用地范圍紅線圖等。

3． 橫店集團上海設資有限公司提供的方案設計要求說明書。

4． 國家及上海市的相關設計規范和規定。

三、 總體規劃布局構思

辦公大樓所處地塊位于橫店集團高新技術工業園區內，該地塊緊靠園區的主入口，西臨南蘆公路，南靠一號樓，東接二號路。該地塊在園區內占有較為重要的位置。

方案總體構思強調可增長性和有機性，為今后的發展預留了發展用地，并對今后發展的部分作了統一規劃。

 辦公樓設置了東西向和南北向兩條生長軸，遠期建筑將沿這兩條軸線作可持續性發展。

 辦公樓西側設計了弧形墻，它有明顯的指向性和引導性，暗示園區主入口的重要性。

 辦公樓采用圓性玻璃門廳體現一種圓滿與和諧。

四、 單體設計

辦公樓總建筑面積5982m2共三層，整體體型較舒展平緩。辦公樓緊臨園區主入口廣場，因此在轉角部位設置入口大廳，辦公樓共有中型辦公場所6處，每個中型辦公場所設若干……